鍍液是由什麽組成的

 鍍液組成
目前研究和（hé）使用的（de）三價鉻電鍍液主要成分如下：
(1)主鹽：當前三（sān）價鉻（gè）鍍鉻體係主要有氯化物體係，硫酸（suān）鹽體係和硫酸鹽-氯化物混合（hé）體係。
氯化物鍍液導電好（hǎo），電壓低，鍍液分散能力、覆蓋能力和電流效率較高，但陽極（jí）會析出有毒的CL2，且對設備腐蝕較重;硫酸鉻電鍍時陽極析出無毒的氧氣，無汙染，但鍍液導電性不如（rú）氯化物，鍍（dù）液分散能力、覆（fù）蓋（gài）能力和電流效率較低。
(2)絡合劑：通常（cháng）為羥基羧酸及其鹽，如甲酸和乙酸（suān）鹽、氨基乙酸（suān）、草酸（suān）及其鹽，檸（níng）檬酸及其鹽，硫（liú）氰（qíng）算（suàn）眼和酒石酸鹽等。
(3)導電鹽（yán）：減少電能的消（xiāo）耗。多為鈉、鉀、銨的氯（lǜ）化物和硫酸鹽。
(4)緩衝劑：維持鍍液（yè）PH值穩定。多為硼酸、醋酸鹽、鋁鹽以及檸檬酸鹽等。
(5)穩定劑：複合型還原劑（jì），抑製和降低六價鉻的產生。多為甲（jiǎ）醇、亞硫酸鈉、鹵化物等。

工藝條件（jiàn）
(1)溫度：最好在室溫下進行，工作溫度一般（bān）控製在15～55℃。溫度（dù）升高會降低濃差極化，並使CR3+的析出點位正移（yí），同時析氫嚴重，不利（lì）於鉻的沉積。
(2)PH值為1～4。PH值低時析氫嚴重，陰極電流效率降低，PH值高時易發生羥橋化反應，鍍層發暗。
(3)電流（liú）密度為3～100A/DM2。陰極電流密度範圍較寬，但較（jiào）低時會影響鉻沉（chén）積速度，陰極電流（liú）密度過高會影響到鍍層性能。
(4)電流效率為10%～25%。可以進行輕微攪（jiǎo）拌。
另外（wài），三價鉻鍍鉻有單槽方式（shì）和雙槽方式，單槽方（fāng）式中的陽極材料是石墨（mò）棒，與其他普（pǔ）通電鍍（dù）一樣;雙槽方式使用了陽極內槽，可以使用鉛錫合金陽極罩，另外作為陽極基礎液使用了稀硫酸。

三價鉻鍍鉻優點
三價鉻電鍍具有下列優點：
(1)毒性低，汙染小。鍍液清洗水中不含六價（jià）鉻，廢水（shuǐ）稍加處理即可排放，且（qiě）電鍍過程不產生有毒（dú）的鉻酸霧;
(2)鍍液（yè）濃度低（dī）,隻有六價鉻鍍鉻的1/10，分散能力（lì）和覆（fù）蓋能力好，成品率提高（gāo）;
(3)電鍍過程不受電流中斷的影響，無（wú）需退鍍（dù）;
(4)陰極電流效率（lǜ）可達21～25%，高於六價鉻電鍍，提（tí）高了生產率。

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