請問真（zhēn）空電（diàn）鍍加工的方法是什（shí）麽？

 真（zhēn）空電鍍加工是真（zhēn）空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀（yí）器、包裝（zhuāng）、機械以及表麵處理技術等眾多方麵有著十分廣泛的應用。為了讓大家更詳細的了解真空鍍膜的應用，今天小編詳細為大家介紹真空電鍍加工的主要幾（jǐ）種方法，希望（wàng）對大（dà）家有用!

真空電鍍應用，簡單地理解（jiě）就是在真空環境下，利用蒸鍍（dù）、濺射以及隨後凝結的辦法，在金屬（shǔ）、玻璃、陶瓷（cí）、半導體以及塑料件（jiàn）等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對於傳統電鍍方式，真空電鍍應用屬（shǔ）於一種幹式電鍍（dù），它的主要（yào）方法包（bāo）括以下幾種：

真空蒸鍍。其原理是在真空條件下，用蒸發器加（jiā）熱帶蒸發物質，使其氣化或升華，蒸發離（lí）子流直接（jiē）射向基片，並在基片上沉積析出（chū）固態薄膜的技術。

濺射鍍膜。濺（jiàn）射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。

離子鍍膜。即幹式螺杆（gǎn）真空泵廠家已經（jīng）介紹過的真空離子鍍（dù）膜。它是在上麵兩種真空鍍膜技（jì）術基礎上發展而來的，因此兼有兩者的工（gōng）藝特點。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發（fā）物（wù）質(膜（mó）材)部分（fèn）離化，並在離子轟擊下，將蒸發物或其反應物沉積在基片表麵。在膜的形成過（guò）程中，基片始終受到高能粒（lì）子的（de）轟擊，十分（fèn）清潔。

真（zhēn）空卷繞鍍膜（mó）。真空卷繞鍍膜（mó）是一種（zhǒng）利用物理（lǐ）氣相沉積的方法在柔性基體上連續鍍膜的（de）技術，以實現柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。

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