塑（sù）膠（jiāo）電鍍工藝幹（gàn）貨分享

一、光鉻的目的：

 

1、因鉻層的惰性（xìng）比較強，質極硬，耐腐蝕。因此通常作為電（diàn）鍍層的最外表層（功能性鍍層/裝（zhuāng）飾性鍍層）。

 

2、因鉻的物理性能極硬，耐腐蝕。因此也通（tōng）常應用於模具鍍鉻（鍍硬鉻）。

 

二、光鉻的電（diàn）鍍（dù）原理：

 

光鉻的鍍液主（zhǔ）要是由鉻酸酐提供鉻離子，以及在硫酸作為催化劑作用下（xià），通電形成的電鍍鉻。

 

陽極反應（yīng）：

2H2O - 4e = O2 + 4 H+

2Cr3+ + 6H2O – 6e = 2CrO3 + 12H+

Pb + 2H2O – 4e = PbO2 + 4H+

 

陰（yīn）極反應：

Cr6+ + 6e = Cr

2 H+ + 2e = H2

 

三、注（zhù）意事項：

 

 

1、鉻條是（shì）不能用來作為陽極使用的，除鉻的物理性（xìng）質而無法加工外還存在鉻陽極將以大約（yuē）100%的陰極（jí）效率溶解為三價鉻，增加溶液（yè）中的三價鉻含量至不（bú）能（néng）接受的極限；

 

2、盡管純（chún）鉛被許多“換向掛鍍”電（diàn）鍍業者所采用，但是更好的（de）腐蝕的陽極材料是鉛錫或鉛銻合金（錫或銻（tī）5-10%）；

 

3、關鍵注意控製光（guāng）鎳缸的光劑含量，一定要保持在中下（xià）限便（biàn）於套鉻（gè）；

 

4、特別注意：當鉻酸和硫酸根濃度（dù）變（biàn）化時，鉻（gè）酸/硫酸（suān）的比值仍維持在100：1或200：1的範圍；

 

5、硫酸根除了在自調節溶液外，幾乎都是由硫酸（suān）帶（dài）入。硫酸不消耗，僅僅隻是帶出損耗；

 

6、為克服電（diàn）流密度偏差問題，常使用輔助陽極或者輔助陰極；

 

7、鍍鉻（gè）溶液對氯離子非常敏感，因此一定要注（zhù）意鍍鉻前（qián）的水洗。

 

四、光鉻常見（jiàn）異常分析及處理：

 

 

1、燒（shāo）焦：

a、電流密度（dù）太大；

b、鎳（niè）層鈍化；

c、假燒：光鎳添加劑太多；

d、產品結構複雜，需做專用掛（guà）具或象形陽極；

e、三價鉻含量太低或太高；

f、雜質影響（特別（bié）是硝酸根的影響）；

g、鍍液溶度異常。

 

2、深鍍能力（lì）差，低區/凹處不上鉻（發黃）：

a、電流密度太小；

b、光鎳的PH值太高；

c、三價鉻含量過多；

d、硫酸含（hán）量太高；

e、陽極異常；

f、掛（guà）位擊穿（掛具導（dǎo）電效果（guǒ）不好或承載（zǎi）電流太（tài）小，低區鍍層太薄等）；

g、雜（zá）質影響。

 

3、結合力不好（脫皮）：

a、掛具導電不良或二次導電；

b、雙極性現（xiàn）象造成；

c、鍍層（céng）鈍化；

d、有機物汙染；

e、水洗缸異常。

 

4、鍍層起彩：

a、硫酸含量太低；

b、掛（guà）具導（dǎo）電（diàn）不良；

c、入（rù）槽電流太小；

d、溫度太高。

 

5、掛印明顯或掛印發黑：

a、鍍鉻前異常；

b、掛點太粗；

c、鍍液（yè）濃度太低。

 

6、鹽霧測試性能NG：

a、半光鎳的（de）硫汙（wū）染或電位差太（tài）小等；

b、有機（jī）物汙染；

c、鎳層脆性太大；

d、鍍鉻電流太大造（zào）成鉻微裂紋。

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