鋅鎳合金（jīn）鍍層陰暗原（yuán）因分析鍍層（céng）陰暗

 鍍（dù）層（céng）陰暗多數出現在低電（diàn）流密度區，偶爾也有出（chū）現在（zài）中電流密度區或高電流密（mì）度（dù）區。
低（dī）電流密度區鍍層陰暗可能是（shì）鍍液溫度太高，電流密（mì）度太小，主鹽濃度太低；
次級光亮劑過多或鍍（dù）液中有銅、鋅雜質引起的；中電流密度（dù）區鍍層陰暗可能是由次級（jí）光亮劑太少，有機雜（zá）質過多或有一定量的鐵雜質造成的；
高電流密度區鍍層陰暗可能（néng）是鍍液pH太高，初級光亮劑太少或（huò）鍍液（yè）中有少量的鉻酸鹽、磷酸鹽及（jí）鉛雜質引起的。
此外，鍍前處理不良，鍍件表麵有堿膜或有機物吸附膜，或者底鍍層不好也（yě）會導致鎳層出現陰暗的現象。
分析這類故障，可以取鍍鎳液先做赫爾槽（cáo）試驗（yàn），假使多次試驗，赫爾槽的陰極樣板上鍍層（céng）狀（zhuàng）況良好，沒有出現陰暗的現象，
那麽電鍍時出現的故障，可能是鍍前處理不良或底鍍層不好造成的，應該認真檢查電鍍前的情況。
若赫爾槽（cáo）試驗所得的陰極樣板（bǎn）上出現低電流密度區鍍層陰暗（àn），則可以根據前麵提到（dào）的（de）可能原（yuán）因進行分析。
中、高電流密度區鍍層陰暗，也（yě）可（kě）用類似的方法（fǎ）進行試驗，這裏不再贅述。

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